[发明专利]一种模块化平面阵列稀疏优化方法及系统有效
申请号: | 202010922530.7 | 申请日: | 2020-09-04 |
公开(公告)号: | CN112182953B | 公开(公告)日: | 2023-06-13 |
发明(设计)人: | 靳学明;方佳;朱庆超;王璐;徐龙;陶蕾;金谋平;戴跃飞 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第三十八研究所 |
主分类号: | G06F30/27 | 分类号: | G06F30/27;H01Q21/00 |
代理公司: | 合肥昊晟德专利代理事务所(普通合伙) 34153 | 代理人: | 王林 |
地址: | 230000 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种模块化平面阵列稀疏优化方法及系统,属于阵列天线设计领域,包括以下步骤:S1:模块化操作;S2:初始优化参数;S3:优化计算。本发明在应用于大型平面阵列天线稀疏优化时具有高效性,在稀疏度低于2%的情况下,副瓣电平可以达到‑20dB以下,阵元两两之间最小距离小于期望值,可提高阵列辐射性能;采用模块化操作将目标平面划分成多个模块,各模块形状与尺寸统一有利于降低后期加工成本;适用于大型雷达系统和射电天文系统,可大幅度降低系统的重量与成本,提高工程可实现性,值得被推广使用。 | ||
搜索关键词: | 一种 模块化 平面 阵列 稀疏 优化 方法 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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