[发明专利]一种应用于集成电路行业的陶瓷层的制备方法在审

专利信息
申请号: 202010875797.5 申请日: 2020-08-27
公开(公告)号: CN112210741A 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 徐俊阳;李加 申请(专利权)人: 沈阳富创精密设备股份有限公司
主分类号: C23C4/134 分类号: C23C4/134;C23C4/10;C23C4/01;C23C4/02;C23C4/18
代理公司: 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人: 孙奇
地址: 110000 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及一种应用于集成电路行业的陶瓷涂层的制备方法,该技术制备的陶瓷涂层主要起耐腐蚀和超洁净的作用。该方法主要包括以下步骤:(1)将试样或零件不需要喷涂的部位进行遮蔽;(2)对试样或零件进行喷涂前前处理;(3)选用颗粒直径在25‑45μm之间的氟氧化钇粉末;(4)用大气等离子喷涂技术进行喷涂;(5)去除遮蔽保护,清洗零件。采用该方法获得的氟氧化钇涂层的厚度在150‑250μm之间,涂层的孔隙率低于2%,涂层更致密、更均匀、洁净度更高,有效地提高了集成电路行业的零部件的使用寿命。
搜索关键词: 一种 应用于 集成电路 行业 陶瓷 制备 方法
【主权项】:
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