[发明专利]一种散射屏参数优化方法、散射屏及可读存储介质在审
| 申请号： | 202010862348.7 | 申请日： | 2020-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN114114676A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 成都理想境界科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G03B21/60;G03B21/602;G03B35/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610041 四川省成都市高新*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种散射屏参数优化方法、散射屏及可读存储介质，该方法应用于光场显示中，实现所述光场显示的设备包括投影仪阵列和散射屏，所述散射屏被分为N个区域，所述N个区域设置为非均匀偏折角，N为正整数；所述方法包括：构建关于亮度差异变量的代价函数；所述像素点数量与所述N个区域的N个偏折角相关；根据预设优化算法对所述代价函数进行优化，确定所述代价函数的极小值；根据所述代价函数的极小值确定优化后的偏折角；其中，所述极小值对应的N个偏折角为所述优化后的偏折角。上述方案用于缓解现有技术中存在的光场显示中，不同观察区域能够观察到的投影画面亮度不均匀的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 散射 参数 优化 方法 可读 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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