[发明专利]光学系统及投影设备在审

专利信息
申请号: 202010854274.2 申请日: 2020-08-21
公开(公告)号: CN111856720A 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 全丽伟;李建华 申请(专利权)人: 中山联合光电科技股份有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G03B21/28;G03B21/14
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 宋朝政
地址: 528437 广东省中*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种光学系统及投影设备,所述光学系统沿光线传输方向依次包括:显示单元、第一镜组、第一反射镜、第二镜组以及第二反射镜;所述光学系统满足以下关系:0.01≤|φ300|≤0.03;0.005≤|φ500|≤0.02;其中,所述φ300为所述第一镜组的光焦度,所述φ500为所述第二镜组的光焦度。本发明提供一种光学系统及投影设备,旨在解决现有技术中理论投射距离较短时,投影设备的光学系统的体积较小,导致光学系统的成像性能较差的问题。
搜索关键词: 光学系统 投影设备
【主权项】:
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