[发明专利]研磨抛光用高硬度硅溶胶的生产方法在审
| 申请号： | 202010837634.8 | 申请日： | 2020-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN111909619A | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 马惠琪 | 申请（专利权）人： | 马惠琪 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14 |
| 代理公司： | 上海诺衣知识产权代理事务所(普通合伙) 31298 | 代理人： | 任昉 |
| 地址： | 201702 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种研磨抛光用高硬度硅溶胶的生产方法，包括了硅溶胶水合物的制备步骤、研磨晶体的重整步骤，研磨晶体的超细粉碎步骤、以及研磨抛光用高硬度硅溶胶的收获步骤，通过在高纯硅溶胶中通入气体隔离剂和气体润滑剂使其生成硅溶胶水合物，然后加入粒度为0.5～5微米的磨料晶种，在一定压力和温度下，使硅溶胶水合物中的部分二氧化硅胶粒结晶和重新结晶、磨料晶种产生部分溶化，从而实现研磨晶体的重整，然后，再通过超细粉碎、冷却脱气，最终获得研磨抛光用高硬度硅溶胶的。本发明工艺独特、稳定，可操作性强，产品能够满足多种需要，且生产过程中不会对环境造成污染，节能环保，在提供积极社会效益的同时，能为企业获取较好的经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 抛光 硬度 硅溶胶 生产 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于马惠琪，未经马惠琪许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010837634.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
