[发明专利]一种基于场调控的耦合成像方法及其装置在审

专利信息
申请号: 202010836623.8 申请日: 2020-08-19
公开(公告)号: CN111887846A 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 李艳红;刘国强 申请(专利权)人: 中国科学院电工研究所
主分类号: A61B5/05 分类号: A61B5/05;A61B8/08;A61B8/00
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 关玲
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种基于场调控的耦合成像方法及其装置,基于电磁超材料或电磁超材料与激励线圈、耦合线圈的共同作用,调控磁场,将磁场能量集中至目标体区域,提高电磁与超声耦合成像的激励效率,优化电磁激励声信号的特性。基于场调控的耦合成像装置由电源、磁场激励源、检测和控制系统及检测操作平台组成。检测操作平台由激励线圈、电磁超材料、目标体、声耦合材料或耦合介质、超声传感器、检测槽及扫描系统组成,还可增加耦合线圈。通过电磁超材料或同时结合耦合线圈,调控激励线圈产生的磁场方向,进而调控磁场作用区域,提高激励效率。扫描系统控制超声传感器的位置移动,使超声传感器接收不同位置的声信号并输出,经检测和控制系统放大、滤波,对目标体反演成像。
搜索关键词: 一种 基于 调控 耦合 成像 方法 及其 装置
【主权项】:
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