[发明专利]一种基于场调控的耦合成像方法及其装置在审
申请号: | 202010836623.8 | 申请日: | 2020-08-19 |
公开(公告)号: | CN111887846A | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 李艳红;刘国强 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电工研究所 |
主分类号: | A61B5/05 | 分类号: | A61B5/05;A61B8/08;A61B8/00 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 关玲 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种基于场调控的耦合成像方法及其装置,基于电磁超材料或电磁超材料与激励线圈、耦合线圈的共同作用,调控磁场,将磁场能量集中至目标体区域,提高电磁与超声耦合成像的激励效率,优化电磁激励声信号的特性。基于场调控的耦合成像装置由电源、磁场激励源、检测和控制系统及检测操作平台组成。检测操作平台由激励线圈、电磁超材料、目标体、声耦合材料或耦合介质、超声传感器、检测槽及扫描系统组成,还可增加耦合线圈。通过电磁超材料或同时结合耦合线圈,调控激励线圈产生的磁场方向,进而调控磁场作用区域,提高激励效率。扫描系统控制超声传感器的位置移动,使超声传感器接收不同位置的声信号并输出,经检测和控制系统放大、滤波,对目标体反演成像。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 调控 耦合 成像 方法 及其 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院电工研究所,未经中国科学院电工研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010836623.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:前光模块及其反射式显示设备
- 下一篇:一种水基型脱漆剂及其制备方法和应用