[发明专利]一种用于抛光的精密力位控制装置有效
| 申请号： | 202010828755.6 | 申请日： | 2020-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN111958394B | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 饶志敏;刘海涛;万勇建 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00;B24B47/12;B24B51/00;B24B49/00;B24B49/12 |
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| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于抛光的精密力位控制装置，包括安装底板、导轨底座、交叉滚柱导轨、滑板、光栅、光栅读数头、读数头座、角度传感器、音圈电机磁钢、磁钢底座、音圈电机线圈、压力传感器底座、抛光力传感器、称重传感器、称重传感器底座、测力传感器底座、测力传感器、球铰连接件、电缸滑杆、电缸缸体、制动片以及制动卡钳。该装置设计为纵向使用，具备自重称重功能、平衡自身重量功能、运动位移速度测量功能、压力精密输出功能、抛光压力检测反馈功能、位置闭环功能、姿态监测功能以及快速制动功能等。该装置能够不仅可以输出稳定的抛光压力，还能实现位置闭环控制，以及压力和位置控制的任意切换，有利于提高精密光学加工零件的面形精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 抛光 精密 控制 装置 | ||
【主权项】：
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