[发明专利]掩膜板装置、显示器、曝光机有效
申请号: | 202010805000.4 | 申请日: | 2020-08-12 |
公开(公告)号: | CN111983889B | 公开(公告)日: | 2023-02-03 |
发明(设计)人: | 邓帆 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 刘泳麟 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请公开了一种掩膜板装置、显示器、曝光机。掩膜板装置包括掩膜板、挡板、至少一刻度尺以及至少一遮光带;刻度尺设于相邻两个曝光区域之间,用于确认首次曝光时挡板遮挡掩膜板的位置;遮光带呈矩形长条,设于掩膜板上且位于刻度尺的一侧,用于机台自动识别第二次及第二次以后曝光时挡板遮挡掩膜板的位置。本申请通过在现有挡板位置监控标志旁增加一个矩形条状遮光带,其不必保留遮光带要保护的图形,即可实现机台自动识别第二次及第二次以后曝光时挡板遮挡掩膜板的位置,从而提高识别精度,减少识别误差,并能提高生产效率。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 装置 显示器 曝光 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备