[发明专利]基板处理系统在审
申请号: | 202010794112.4 | 申请日: | 2016-05-09 |
公开(公告)号: | CN111982927A | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 森拓也;早川诚 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;徐飞跃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种基板处理系统。具有对基板实施规定处理的多个处理装置的基板处理系统,拍摄用处理装置处理前的基板的表面来取得第一基板图像,从该第一基板图像抽取规定的特征量,从存储有与各自不同的范围的特征量对应地设定的多个检查方案的存储部,选择与从第一基板图像抽取的特征量对应的检查方案,拍摄用处理装置处理后的基板的表面来取得第二基板图像,基于检查方案和第二基板图像,判断基板有无缺陷。根据本发明,能够进行最佳的检查,并能够抑制精度的偏差。 | ||
搜索关键词: | 处理 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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