[发明专利]镜片保护装置及光刻机有效

专利信息
申请号: 202010764691.8 申请日: 2020-07-31
公开(公告)号: CN114054964B 公开(公告)日: 2022-11-11
发明(设计)人: 程斌斌;郝保同;朱文洁 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362;B23K26/70;G03F7/20
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 王宏婧
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明的一种镜片保护装置和光刻机,其中,镜片保护装置通过在第一保护结构和镜片之间设有第二保护结构,并使第二保护结构输出的第二保护气体中的惰性气体的比例大于第一保护结构输出的第一保护气体中惰性气体的比例。如此,通过在镜片与第一保护气膜之间形成有第二保护气膜,且使第二保护气膜比第一保护气膜更纯净,则在第一保护结构输出的第一保护气体朝向镜片方向扩散时,第二保护气膜可有效的阻挡第一保护气体扩散至镜片,以防止第一保护气体在扩散过程中造成镜片的污染。
搜索关键词: 镜片 保护装置 光刻
【主权项】:
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