[发明专利]一种多片对位曝光方法和系统在审
| 申请号： | 202010760905.4 | 申请日： | 2020-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN111897189A | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 梁珊;洪嘉乐 | 申请（专利权）人： | 伯恩创盛技术研发（惠州）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 516221 广东省惠州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体制造技术领域，提供一种多片对位曝光方法和系统，在产品曝光之前，实时地采集阵列基板上的产品和靶标的坐标生成位置坐标数据文件，并根据位置坐标数据文件修正预设曝光图纸，得到实际曝光图纸；还建立了包括主控模块以及与其电性连接的曝光装置、扫描装置的多片曝光系统，充分利用主控模块的计算功能，生成并根据位置坐标数据文件，对预设曝光图纸上的每一个产品进行了细致且精确的位置修正，得到与阵列基板完全对应的实际曝光图纸，从而能够在同一时间对多片产品进行对位、曝光，不仅以几何倍数地增大了曝光设备的产能，还大幅度地提高曝光设备的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对位 曝光 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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