[发明专利]高精度磁流变抛光装置在审
申请号: | 202010713643.6 | 申请日: | 2020-07-20 |
公开(公告)号: | CN111761423A | 公开(公告)日: | 2020-10-13 |
发明(设计)人: | 吴克钱;毕成;王鸿云;姜宇新;丁世杰;刘强 | 申请(专利权)人: | 台州学院 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B31/10;B24B31/12 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 318000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了高精度磁流变抛光装置,包括器皿、磁流变抛光液、至少一组薄壁旋转组件和至少两组磁场发生组件,器皿内开有抛光腔,磁流变抛光液放置在抛光腔内;薄壁旋转组件包括薄壁管和第一电机,薄壁管转动设置在抛光腔内,第一电机固定在器皿外壁上,且带动薄壁管沿其轴线旋转;每组薄壁旋转组件与器皿侧壁之间、相邻的薄壁旋转组件之间的正下方均设有一组磁场发生组件,磁场发生组件包括磁场发生器和水平移动装置,磁场发生器固定在水平移动装置上,水平移动装置沿薄壁管轴线方向移动。本发明的优点是:通过移动的磁场发生器组件使磁流变液转为固态的磁束刷,不断与待抛光零件接触进行抛光,可以对待抛光零件进行批量抛光,大大提高抛光效率。 | ||
搜索关键词: | 高精度 流变 抛光 装置 | ||
【主权项】:
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