[发明专利]一种在超高真空系统内精确气体进样、采集的分析装置有效

专利信息
申请号: 202010655472.6 申请日: 2020-07-09
公开(公告)号: CN111879757B 公开(公告)日: 2023-09-15
发明(设计)人: 董珊珊;周传耀;夏树才 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: G01N21/75 分类号: G01N21/75;G01N21/03
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 何丽英
地址: 116023 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明属于表面化学技术领域,特别涉及一种在超高真空系统内精确气体进样、采集的分析装置。包括气路装置、定量给料器装置、残余气体分析仪装置、激光器及超高真空腔体,其中气路装置和定量给料器装置连接,定量给料器装置接入超高真空腔体内,用于给样品的表面提供吸附气体;残余气体分析仪与铜罩子组合安装在超高真空腔体上,用于精准探测样品表面脱附出的气体;超高真空腔体上有预留的窗口,激光器发射的激光通过窗口照射至样品的表面上进行光化学反应。本发明易操作,精确度高,可以灵活地在超高真空系统内以各种角度转动样品,结合外加光照,可进一步探测并分析表面化学反应产物。
搜索关键词: 一种 超高 真空 系统 精确 气体 采集 分析 装置
【主权项】:
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