[发明专利]磁控溅射用的旋转阴极磁棒在审

专利信息
申请号: 202010619377.0 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN111621760A 公开(公告)日: 2020-09-04
发明(设计)人: 来华杭;俞峰;刘杰;施成亮;江嘉;周海龙 申请(专利权)人: 浙江上方电子装备有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 杭州合信专利代理事务所(普通合伙) 33337 代理人: 沈自军
地址: 312366 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种磁控溅射用的旋转阴极磁棒,包括磁棒支架以及固定在磁棒支架表面的磁铁,沿磁棒支架的长度方向,磁铁包括中部磁铁和端部磁铁,中部磁铁为依次布置的三排,分别为居中排以及两侧边排,相对于磁棒支架表面的方向,相邻排中部磁铁的极性反向布置。端部磁铁包括:中间组,极性方向与所述居中排相同,且由居中排进一步向磁棒支架端部延伸排列;外围组,极性方向与所述两侧边排相同,且由两侧边排起沿直线的合围路径进一步向所述磁棒支架端部延伸并交汇合围于所述中间组的外周。通过对沿磁棒支架长度方向两端的端部磁铁布以特定的排布方式进行固定,使得两端的磁场衰减,从而在不缩短有效镀膜区长度的情况下,提高靶材有效利用率。
搜索关键词: 磁控溅射 旋转 阴极
【主权项】:
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