[发明专利]一种光刻胶保湿系统在审
| 申请号： | 202010580833.5 | 申请日： | 2020-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN111661452A | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 吴永利 | 申请（专利权）人： | 芯米（厦门）半导体设备有限公司 |
| 主分类号： | B65D25/02 | 分类号： | B65D25/02;B65D81/22;B65D85/50;B01F7/16;B01F7/26;B01F15/00;B01F13/00 |
| 代理公司： | 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 | 代理人： | 吴圳添 |
| 地址： | 361000 福建省厦门市火炬*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶保湿系统，其结构包括盒体，本发明通过设置辅助机构于盒盖上端中部，电机输出轴带动第一旋转轴，从而使得固定在旋转板右端的搅拌装置开始对承装斗内的光刻胶进行搅拌，达到了防止光刻胶凝结，且便于使用者进行使用的优点，通过设置承装装置于盒体上端中部，将光刻胶放置在承装斗后，搅拌装置工作时，将使得滑杆在凹槽中进行缓慢的转动，达到了增强承料斗工作时的稳定性的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 保湿 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于芯米（厦门）半导体设备有限公司，未经芯米（厦门）半导体设备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010580833.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
