[发明专利]一种基于面阵光源的散射校正方法和系统在审
| 申请号： | 202010575955.5 | 申请日： | 2020-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN111685784A | 公开（公告）日： | 2020-09-22 |
| 发明（设计）人： | 袁洲;姚鹏;冯娟 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 成都七星天知识产权代理有限公司 51253 | 代理人： | 朱璟 |
| 地址： | 201807 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请一个或多个实施例涉及一种基于面阵光源的散射校正方法及其系统，该方法包括：基于第一出射参数，采集目标扫描对象在射线阻挡阵列阻挡下的第一投影数据；基于所述第一投影数据，确定所述目标扫描对象的散射数据；基于第二出射参数，采集所述目标扫描对象不在射线阻挡阵列阻挡下的第二投影数据；以及基于所述散射数据和所述第二投影数据，确定所述目标扫描对象的目标投影数据。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 光源 散射 校正 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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