[发明专利]设备控制系统、方法和存储介质在审
| 申请号： | 202010559815.9 | 申请日： | 2020-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN111560594A | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 王世宽 | 申请（专利权）人： | 上海松尚国际贸易有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/35;C23C14/08 |
| 代理公司： | 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 | 代理人： | 杨立秋 |
| 地址： | 200000 上海市浦东新区中国(*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种设备控制系统、方法和存储介质，属于机械设备技术领域，所述系统包括：PVD腔、流量控制阀、流量检测计、电压检测组件、可编程逻辑控制器PLC控制器；流量控制阀和流量检测计与PVD腔连通，所述流量控制阀用于向控制所述PVD腔内进气的流量，流量检测计用于检测PVD腔的进气流量；电压检测组件用于检测PVD腔中的靶材的溅射电压；流量控制阀、流量检测计和电压检测组件与PLC控制器电性连接；解决了现有技术中制备的氧化钒薄膜的电阻均匀性不好，重复性和稳定性不好，而且无法实现所需要电阻的精确调节的问题；达到了可以提高电阻均匀性，重复性和稳定性好，并且电阻可精确调节的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 控制系统 方法 存储 介质 | ||
【主权项】：
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