[发明专利]一种采用热退火后合成技术制备MOF纳滤膜的方法有效
| 申请号： | 202010551037.9 | 申请日： | 2020-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN111672330B | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 王乃鑫;李晓婷;孙皓;王湘琼;李杰;安全福 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01D69/12;B01D69/02;B01D61/00 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 张立改 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种采用热退火后合成技术制备MOF纳滤膜的方法，属于膜分离领域，包括以下步骤：将多孔陶瓷基底进行超声预处理，活化及清理陶瓷基底表面。首先，在陶瓷基底表面涂覆金属凝胶，之后将陶瓷基底置于含有有机配体的溶液中，使MOF纳米颗粒在陶瓷基底上原位生长从而形成连续无缺陷的MOF分离层。将合成的MOF复合膜进行高温后合成改性，通过调控退火温度，退火时间，升温速率，降温速率等，活化MOF颗粒内部微观结构及调控MOF分离层的厚度和形貌。本发明方法制备的MOF分离膜与基底结合力良好，可以有效提高分离过程中的传质速率，从而在不牺牲截留率的情况下，提高分离膜的通量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 退火 合成 技术 制备 mof 滤膜 方法 | ||
【主权项】：
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