[发明专利]光照射装置、光照射方法和存储介质在审
| 申请号： | 202010545970.5 | 申请日： | 2020-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN112147854A | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | 鬼海贵也;古闲法久;友野胜 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光照射装置，其包括：收纳基片的处理室；收纳能量射线的射线源的线源室；将处理室与线源室分隔开的分隔壁；多个窗部，其设置在分隔壁，能够使从射线源向处理室内的基片出射的能量射线透射；和多个气体释放部，其分别设置在处理室内的多个窗部的周围，沿多个窗部的表面释放非活性气体。根据本发明，能够有效提高光照射处理的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 装置 方法 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010545970.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：垂直半导体装置
- 下一篇：天线装置及温度检测方法
