[发明专利]一种射流抛光中形成高斯型去除函数的组件及其装置在审
| 申请号： | 202010467584.9 | 申请日： | 2020-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN111482905A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 李建;孙鹏飞;张连新;李强;周涛;曹鹏辉 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 主分类号： | B24C1/08 | 分类号： | B24C1/08;B24C9/00;B24C5/04 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 张超 |
| 地址： | 621000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种射流抛光中形成高斯型去除函数的组件及其装置，属于光学制造技术领域，包括本体，本体包括旋转轴，旋转轴下端沿轴线方向上设置有标准锥，标准锥至少有一侧倾斜设置有喷嘴，旋转轴中心设置有用于流通抛光液的入流通道，入流通道下端与喷嘴连通，抛光液在喷嘴末端形成有射流束，射流束与旋转轴线的交点应位于工件表面上方，且交点且离工件表面的距离0‑1000μm,采用斜入射旋转扫略的方式来产生高斯型去除函数，通过在旋转轴、标准锥、喷嘴和测头，调整喷嘴距离工件表面的高度，可以在材料表面形成具有一定的高斯曲线，并且可以对抛光液进行收集，并且通过供液泵进行回收利用，提高资源利用效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射流 抛光 形成 高斯型 去除 函数 组件 及其 装置 | ||
【主权项】：
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