[发明专利]一种消除内存条氧化现象的扩展插槽在审

专利信息
申请号: 202010463252.3 申请日: 2020-05-27
公开(公告)号: CN111632889A 公开(公告)日: 2020-09-08
发明(设计)人: 左超颖 申请(专利权)人: 杭州依锋科技有限公司
主分类号: B08B1/00 分类号: B08B1/00;B08B5/02;G06F1/18
代理公司: 北京恒泰铭睿知识产权代理有限公司 11642 代理人: 吴媛媛
地址: 310016 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及技术领域,且公开了一种消除内存条氧化现象的扩展插槽,包括壳体,所述壳体的顶部固定连接有接触器,壳体的内部开设有滑轨,滑轨的表面滑动连接有接触杆,接触杆的表面活动连接有弹簧杆,壳体的内部的两侧壁均固定连接有形变囊,所述弹簧杆远离滑轨的一端活动连接有空气弹簧,空气弹簧的表面活动连接有推板,推板的表面活动连接有滑槽,滑槽的内部活动连接有活塞杆,滑槽的左右两侧均活动连接有气压块,气压块的表面活动连接有限位板。即形变囊被充气膨胀变大,故会推动剐蹭板移动,后当计算机停止工作时振动停止,形变囊体积变小时,即橡胶块在内存条金属部位移动,故从而达到了无需取出便可消除内存条氧化层的效果。
搜索关键词: 一种 消除 内存条 氧化 现象 扩展 插槽
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州依锋科技有限公司,未经杭州依锋科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010463252.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top