[发明专利]一种基于高斯曲率的光学靶标点投影规划方法在审
申请号: | 202010441945.2 | 申请日: | 2020-05-22 |
公开(公告)号: | CN111664801A | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | 朱绪胜;杨林志;陈雪梅;陈洪宇;申皓;刘蕾;陈清良 | 申请(专利权)人: | 成都飞机工业(集团)有限责任公司 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24;B64F5/60 |
代理公司: | 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 | 代理人: | 彭思雨 |
地址: | 610092*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本申请涉及数字化测量技术领域,公开了一种基于高斯曲率的光学靶标点投影规划方法,本方法根据飞机表面局部区域的高斯曲率大小,自适应地调整光学投点器投射的靶标点密度,在对飞机表面轮廓以及装配质量进行检测时,能够满足不同区域对靶标点密度的不同要求,减小了因测量表面弯曲程度较大而造成的光学靶标点投影失真,便于摄影测量等系统对靶标点的识别和计算,提高了测量精度和测量效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 高斯曲率 光学 靶标 投影 规划 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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