[发明专利]一种曝光剂量调节方法和系统在审
申请号: | 202010439423.9 | 申请日: | 2020-05-22 |
公开(公告)号: | CN111568451A | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 崔凯;徐亮;袁洲;杨乐 | 申请(专利权)人: | 上海联影医疗科技有限公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;G06K9/32;G06K9/38 |
代理公司: | 成都七星天知识产权代理有限公司 51253 | 代理人: | 袁春晓 |
地址: | 201807 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本申请提供了一种曝光剂量调节方法和系统。所述方法包括:根据第一曝光剂量,获取第一图像;将所述第一图像输入至检测模型,确定所述第一图像中的感兴趣区域,所述检测模型为机器学习模型;确定第一图像中的感兴趣区域的灰度值;根据所述灰度值和预设灰度目标值,调节第一曝光剂量,得到用于生成第二图像的第二曝光剂量。本申请可以快速获得曝光剂量合适的高质量图像,同时有效降低患者接收不必要的辐射剂量。 | ||
搜索关键词: | 一种 曝光 剂量 调节 方法 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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