[发明专利]卷对卷双面曝光装置和双面数字化直写曝光方法在审
| 申请号： | 202010431942.0 | 申请日： | 2020-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN111708253A | 公开（公告）日： | 2020-09-25 |
| 发明（设计）人： | 唐仁洪;汪孝军;梅文辉;李贵鸿;王建新;阳强 | 申请（专利权）人： | 中山新诺科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H05K3/06 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 张培柳 |
| 地址： | 528437 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种卷对卷双面曝光装置，包括：放料机构、曝光机构、以及收料机构。放料机构用于承载曝光前的电路板并且以卷料的形式放料；曝光机构包括：滑座、驱动模组、第一曝光模组、以及第二曝光模组；第一曝光模组和第二曝光模组在滑座的带动下同步移动；收料机构用于承载曝光后的电路板并且以卷料的形式收料；放料机构与收料机构配合以拉紧电路板。同时，本发明还提供一种双面数字化直写曝光方法。本发明的有益效果为，利用放料机构和收料机构实现电路板的卷料式供料，并且在曝光机构处实现悬空拉直，免去支撑所需的玻璃板。从硬件上实现两个曝光模组的同步运动，实现连续双面曝光作业，简化了作业流程，提高了工作效率，提高了曝光精度。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 曝光 装置 数字化 方法 | ||
【主权项】：
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