[发明专利]成膜装置在审
| 申请号： | 202010410531.3 | 申请日： | 2020-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN111945117A | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 宫下大 | 申请（专利权）人： | 住友重机械工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 任玉敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够延迟沉积物的生长的成膜装置。成膜装置(1)具备向环炉床(6)的线圈(6a)供给电力的电源(50)。该电源(50)在主炉床(21)的上方改变磁通密度。如此，在使磁通密度为0的区域变动的情况下，能够使扩散的成膜材料集中附着于主炉床(21)及环炉床(6)的周围的位置变动。这样形成的沉积物与通过成膜材料集中在狭窄范围内而形成的沉积物相比，生长变慢。由此，能够延迟沉积物的生长。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
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