[发明专利]一种提高光学薄膜元件抗激光损伤能力的方法有效
| 申请号： | 202010401534.0 | 申请日： | 2020-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN111443406B | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 刘文文;蒲唐阳;梁龙;曹宇;张健;朱德华 | 申请（专利权）人： | 温州大学 |
| 主分类号： | G02B1/12 | 分类号： | G02B1/12;G01M11/04 |
| 代理公司： | 北京中北知识产权代理有限公司 11253 | 代理人： | 陈孝政 |
| 地址： | 325000 浙江省温州市瓯海经济*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种提高光学薄膜元件抗激光损伤能力的方法，包括：首先获得光学薄膜元件的功能性损伤阈值；之后进行光学薄膜元件的覆层处理和激光诱导等离子体冲击后处理：获得经过不同扫描参数激光诱导离子体后处理作用后的所有薄膜元件功能性损伤阈值；选择其中最大的功能性损伤阈值作为光学薄膜元件的最优功能性损伤阈值，其对应的脉宽和扫描参数为最优参数；采用所述最优参数对光学薄膜元件进行激光诱导等离子体后处理来提高光学薄膜元件抗激光损伤能力。本发明可同时降低薄膜中的结构型和吸收型缺陷的缺陷密度，又可改善薄膜界面间的结合力等力学性能，解决了目前现有后处理技术只对少部分薄膜元件类型有效且提升效果也有限的难题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 光学薄膜 元件 激光 损伤 能力 方法 | ||
【主权项】：
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