[发明专利]一种不同陪衬版图环境的电阻模型及其提取方法在审
| 申请号： | 202010336878.8 | 申请日： | 2020-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN111507052A | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 张瑜;商干兵 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/33 | 分类号： | G06F30/33 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种不同陪衬版图环境的电阻模型及其提取方法，设计不同周围环境的电阻结构；对电阻结构进行阻值测量，得到电阻结构的阻值随函数F1中某个参数的变化曲线；建立关于函数F1的基本电阻模型，通过调节基本电阻模型参数将步骤二中得到的变化曲线与基本电阻模型参数进行拟合；建立关于函数F2的环境相关的电阻模型，通过调节环境相关的电阻模型参数将步骤二中得到的变化曲线与环境相关的电阻模型参数进行拟合；将拟合后得到的电阻模型进行验证。本发明在原有尺寸、电压相关的电阻模型的基础上，增加了与周围环境相关的函数，可以更加准确表征电阻在不同周围环境下的特性，建立更为精准且实用性更广的电阻模型。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 不同 陪衬 版图 环境 电阻 模型 及其 提取 方法 | ||
【主权项】：
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