[发明专利]基于异形双柱体阵列的新型图案化纳米结构制备方法在审
| 申请号： | 202010336737.6 | 申请日： | 2020-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN111483976A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 周玲 | 申请（专利权）人： | 南通大学 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00 |
| 代理公司： | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 许洁 |
| 地址： | 226000*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于异形双柱体阵列的新型图案化纳米结构制备方法，包括以下步骤：步骤1.设计异形双柱体阵列；步骤2.建立纳米粒子/聚合物体系受限在异形双柱体阵列中的自组装模型；步骤3.反复调试程序，获得产生图案化结构的各种参数；步骤4.改变纳米粒子的体积分数，得到多种图案化纳米结构，从而实现图案化纳米结构的调控；步骤5.调节系统和柱体的尺寸，以及纳米粒子与聚合物的体积比，获得其他的图案化结构；步骤6.设计其他的异形双柱体阵列，重复以上步骤1‑步骤5，获得不同的图案化纳米结构。本发明通过异形双柱体阵列受限的方法，对纳米粒子/聚合物体系进行受限，获得不同于传统受限方法的独特、新颖、复杂的图案化纳米结构材料。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 异形 柱体 阵列 新型 图案 纳米 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
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