[发明专利]一种可量产的高纯SiC陶瓷涂层的低温常压烧结制备方法有效

专利信息
申请号: 202010328719.3 申请日: 2020-04-23
公开(公告)号: CN111517797B 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: 梅辉;赵钰;常鹏;成来飞 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: C04B35/577 分类号: C04B35/577;C04B35/622;C04B35/64
代理公司: 西安凯多思知识产权代理事务所(普通合伙) 61290 代理人: 王鲜凯
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种可量产的高纯SiC陶瓷涂层的低温常压烧结制备方法,以涂层的形式应用于需要耐高温、抗氧化及耐腐蚀等防护性能的领域。其技术特征在于步骤为调配高纯SiC料浆、刷涂和低温无压烧结。本发明所提供的技术方案通过调控高纯SiC料浆配方来控制SiC涂层的纯度和烧结温度,实现高纯SiC涂层在1750~1800℃的常压烧结和工业化制备生产。本发明中高纯SiC的料浆配方及刷涂和烧结过程灵活可控,涂层与基体结合良好,无明显剥落和裂纹,工艺过程操作简单,耗时短,大幅度降低了成本。
搜索关键词: 一种 量产 高纯 sic 陶瓷 涂层 低温 常压 烧结 制备 方法
【主权项】:
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