[发明专利]一种光学组件、光刻系统以及光刻投影方法在审
| 申请号： | 202010312423.2 | 申请日： | 2020-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN111367150A | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 李建新;曾依蕾;杨忠宪 | 申请（专利权）人： | 福建省晋华集成电路有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 吴大建;金淼 |
| 地址： | 362200 福建省泉州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学组件、光刻系统以及光刻投影方法，通过在基底101上设置反射层102，在基底101背面和/或基底101与反射层102之间设置热电层103，能够通过热电层103将光学组件中的热能转换为电能，从而及时把热能从光学组件中传导出去，降低了光学组件的温度，避免了光学组件因受热变形，有效提高了光学组件的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 组件 光刻 系统 以及 投影 方法 | ||
【主权项】：
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