[发明专利]一种脱细胞真皮基质的辐照保护方法在审
申请号: | 202010310864.9 | 申请日: | 2020-04-20 |
公开(公告)号: | CN111481684A | 公开(公告)日: | 2020-08-04 |
发明(设计)人: | 蒋彩云;李志宏;柏玮;郭雅楠 | 申请(专利权)人: | 百澳瑞派(天津)生物科技有限公司 |
主分类号: | A61L2/08 | 分类号: | A61L2/08;A61L27/36 |
代理公司: | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人: | 刘丹舟 |
地址: | 301714 天津市武清区河西*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及一种脱细胞真皮基质的辐照保护方法,该方法步骤包括:将脱细胞真皮基质置于含辐照保护剂的PBS缓冲液中于2‑8℃超低压渗透法浸泡20‑120min;然后将真皮基质取出后转入新的含辐照保护剂的PBS缓冲液中,真空封口包装,湿态保存;最后进行低温辐照灭菌,辐照剂量为10‑25KGy,辐照保护剂为儿茶素、丹酚酸B、金属硫蛋白、甘露醇、阿魏酸、山竹醇中的一种或任意两种组合。本发明提供一种在辐照过程中能有效保护脱细胞真皮基质组织结构,确保其使用性能的脱细胞真皮基质的辐照保护方法,有效解决真皮基质收缩温度降低、热稳定性变差以及断裂伸长率降低的技术问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 细胞 真皮 基质 辐照 保护 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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