[发明专利]基于足底压力的足旋前检测方法和装置在审
| 申请号： | 202010302051.5 | 申请日： | 2020-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN111632361A | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 高伟东;于军超 | 申请（专利权）人： | 北京邮电大学 |
| 主分类号： | A63B71/06 | 分类号： | A63B71/06;G08C17/02;G06K9/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 杨云云 |
| 地址： | 100876 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种基于足底压力的足旋前检测方法和装置，该方法包括：在预设时间段内采集足部各区实时压力信号，所述足部各区包括足最后跟区、足次后左跟区、足次后右跟区、足部第一趾骨区、足部第一趾跖关节区、足部第二趾跖关节区、足部第三跖骨区和足部第五跖骨区；基于所述足部各区实时压力信号确定任一足部支撑期中的旋前时长占支撑时长的比例；若所述比例高于第一阈值，则该足部支撑期对应的步态周期判定为过度足旋前。本发明实施例提供的方法和装置，实现了过度足旋前检测的成本与精度的平衡。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 足底 压力 足旋前 检测 方法 装置 | ||
【主权项】：
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