[发明专利]光机系统及应用其的投影设备在审
| 申请号： | 202010264962.3 | 申请日： | 2020-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN113495418A | 公开（公告）日： | 2021-10-12 |
| 发明（设计）人： | 方元戎;郭祖强;李屹 | 申请（专利权）人： | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 袁江龙 |
| 地址： | 518052 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光机系统及应用其的投影设备，包括匀光组件、成像透镜组、TIR棱镜以及光路预处理透镜，匀光组件接收入射光并进行匀光处理后形成出射光并进行出射；成像透镜组设置于出射光的光路上，用于对出射光进行成像整形；TIR棱镜设置于被成像整形的出射光的光路上，用于对出射光进行整形，以形成照明光；光路预处理透镜，位于TIR棱镜前，以对进入TIR棱镜之前的出射光的光斑进行预处理，进而抵消出射光在经过TIR棱镜时TIR棱镜对出射光的光斑造成的拉伸变形。通过上述方式，本发明能够抵消出射光在经由TIR棱镜时的拉伸，进而减少出射光的形变。 | ||
| 搜索关键词： | 系统 应用 投影设备 | ||
【主权项】：
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