[发明专利]一种生产超薄CVD金刚石的方法在审

专利信息
申请号: 202010231730.8 申请日: 2020-03-27
公开(公告)号: CN111360411A 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 赵芬霞;刘宏明 申请(专利权)人: 湖州中芯半导体科技有限公司
主分类号: B23K26/36 分类号: B23K26/36;B23K26/402;B23K26/08;B23K26/70;B23K37/04
代理公司: 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 代理人: 邓凌云
地址: 313000 浙江省湖州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及金刚石加工技术领域,且公开了一种生产超薄CVD金刚石的方法,包括如下步骤:S1.准备待处理加工的CVD金刚石片、功率大于10W的激光器和用于驱动激光器运动的数控机床;S2.将CVD金刚石片固定在数控机床工作面上,打开激光器发射出激光照射样品表面,CVD金刚石片表面的碳原子与空气中的氧气结合成为二氧化碳气体逸出,从而消耗金刚石的厚度;S3.通过数控机床在平行于CVD金刚石片表面的平面内沿固定路径循环移动激光器,使得激光器照射出的激光光斑能够覆盖CVD金刚石片表面的所有区域。该生产超薄CVD金刚石的方法,具备能够精准控制CVD金刚石片的加工厚度,保证了加工质量的优点。
搜索关键词: 一种 生产 超薄 cvd 金刚石 方法
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