[发明专利]一种缓蚀剂复合阴离子插层水滑石制备方法

摘要

本发明属于缓释防腐技术领域，涉及一种在非N2保护氛围下实现缓蚀剂复合阴离子插层水滑石的制备方法，首先，将M2+可溶性盐和M3+可溶性盐溶于脱CO2煮沸的去离子水中，配制成溶液A；将两种阴离子可溶性盐与氢氧化钠溶于脱CO2煮沸的去离子水中，配制成溶液B；然后，将溶液A和溶液B混合置于聚四氟乙烯水热反应釜中，加入氢氧化钠溶液调节pH值；最后，在干燥环境中反应24h，得到产物，过滤洗涤产物，干燥，得到缓蚀剂复合阴离子插层水滑石；其在碱性条件下，采用水热法将两种缓蚀剂阴离子同时插入到水滑石层间，通过腐蚀环境中的侵蚀阴离子与层间缓蚀剂阴离子的交换达到释放缓蚀剂阴离子的目的。