[发明专利]一种高石墨化聚酰亚胺基石墨厚膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010183327.2 申请日: 2020-03-16
公开(公告)号: CN111470876B 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 张艺;李帅臻;郑智博;蒋星;池振国;刘四委;许家瑞 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: C04B35/83 分类号: C04B35/83;C04B35/622;C08J5/18;C08G73/10;C08K3/04;C08L79/08
代理公司: 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 代理人: 周端仪
地址: 510275 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种高石墨化聚酰亚胺基石墨厚膜及其制备方法,其包括以下步骤:制备碳纳米管掺杂聚酰亚胺厚薄膜,然后放置在碳化炉中,在氩气氛围下高温碳化,最后转移至石墨炉中高温石墨化,即得到高石墨化的石墨厚膜。本发明工艺操作简单,制备过程中不需要喷涂,条件温和,实用性强,节约能源,易于实现工业化生产,具有工业化前景。采用本发明方法制备的石墨厚膜除了保持了石墨膜重量轻、使用温度高等优点外,通过碳纳米管的引入有助于提高聚酰亚胺厚膜的石墨化程度,表面及内部均具有高石墨化程度,解决了成品成膜率不高以及内部石墨化不完全的问题,从而提高成品的导热性能,拓宽了其应用范围。
搜索关键词: 一种 石墨 聚酰亚胺 基石 墨厚膜 及其 制备 方法
【主权项】:
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