[发明专利]流体处理模组在审
| 申请号： | 202010170437.5 | 申请日： | 2019-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN111470579A | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 李宰昊;崔载荣;郑雄基;韩奎源 | 申请（专利权）人： | 首尔伟傲世有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32;A61L9/20 |
| 代理公司： | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人： | 玉昌峰;金惠淑 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开一种流体处理模组，其包括：排管，提供流体移动的通道，并具有流入口和排出口；光源模组，包括基板和至少一个发光元件，所述发光元件设置在所述基板的前面上，并将处理所述流体的光向所述排管内照射；反射器，设置在所述排管内，对于所述光具有比所述排管高的反射率，并反射从所述光源模组射出的所述光；以及封装部件，封装所述排管，并散发所述光源模组的热。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 处理 模组 | ||
【主权项】：
暂无信息
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