[发明专利]一种曝光方法及曝光系统有效
| 申请号： | 202010147972.9 | 申请日： | 2020-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN113359399B | 公开（公告）日： | 2023-02-10 |
| 发明（设计）人： | 于亮;徐兵;陈文枢;陈烈 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光方法及曝光系统，在基板进入曝光设备内进行曝光之前，先通过量测设备完成对基板上的每个芯片的测量，曝光设备只需执行曝光进程即可，故而可以缩短基板在曝光设备内的时间，提高整体效率；另外，量测设备和曝光设备采用相同的基板对准标记来进行基板对准，并根据相同的基板对准标记坐标系来进行每个芯片的对准标记坐标系和设备的坐标系之间关系的转换，故而，对每个芯片进行曝光的曝光数据不受所述量测设备和所述曝光设备的坐标系不一致的影响，因此可以提高曝光精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 方法 系统 | ||
【主权项】：
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