[发明专利]像素校正在审
| 申请号： | 202010139251.3 | 申请日： | 2020-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN111669523A | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 戴维·汉韦尔;尼伦·伊尔迪斯 | 申请（专利权）人： | 顶级公司 |
| 主分类号： | H04N5/367 | 分类号： | H04N5/367;H04N9/04 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 陈蒙 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开涉及像素校正。一种用于图像处理的方法和装置，该方法包括：获得包括表示相应多个像素位置的多个像素强度值的输入图像数据，获得标识由受损像素强度值表示的一个或多个像素位置的像素位置数据，生成包括改进的像素强度值的内插图像数据，存储至少包括内插图像数据的改进的图像数据，以及基于改进的图像数据来检测一个或多个其他受损像素强度值。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 校正 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于顶级公司，未经顶级公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010139251.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：增材制造系统以及容器
- 下一篇：半导体激光装置以及分析装置
