[发明专利]一种基于双预测PI的薄膜转绕系统张力控制方法在审
| 申请号： | 202010121325.0 | 申请日： | 2020-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN111377286A | 公开（公告）日： | 2020-07-07 |
| 发明（设计）人： | 李勇;任正云 | 申请（专利权）人： | 东华大学 |
| 主分类号： | B65H26/04 | 分类号： | B65H26/04 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 徐俊 |
| 地址： | 201600 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于双预测PI的薄膜转绕系统张力控制方法，涉及薄膜制造行业的工业控制领域，其实质是控制张力稳定来保证薄膜的生产质量，其针对薄膜转绕张力系统存在的积分加纯滞后的特点，使用双预测PI控制算法的I部分消除系统的积分特性，使用双预测PI算法的预测部分来消除滞后特性，内环采用预测PI控制器将积分加纯滞后对象转换成为常见的一阶惯性加纯滞后对象，外环采用预测PI控制对包括内环控制器在内的广义对象进行控制，提高了对薄膜转绕张力系统的张力的实时控制，能稳定的保持输出跟随输入变化；根据薄膜转绕张力系统的滞后时间来计算双预测PI控制算法中的控制参数，根据控制效果来调节控制器的时间常数T，根据增加干扰来确定双预测PI控制算法的抗稳定能力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 预测 pi 薄膜 系统 张力 控制 方法 | ||
【主权项】：
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