[发明专利]一种高世代平板用铜钼蚀刻液有效
| 申请号： | 202010119553.4 | 申请日： | 2020-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN111270237B | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 戈士勇 | 申请（专利权）人： | 江阴润玛电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/44 | 分类号： | C23F1/44 |
| 代理公司： | 无锡义海知识产权代理事务所(普通合伙) 32247 | 代理人： | 张春合 |
| 地址： | 214400 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高世代平板用铜钼蚀刻液，所述蚀刻液的原料按重量百分比计算，包括硫酸0.1‑5％，过氧化氢5‑20％，过硫化钠0.5‑5％，硫酸铵5‑15％，氯化钠3‑10％，氟化铵1‑5％，稳定剂Ⅰ0.5‑3％，表面活性剂2‑10％和金属离子保护剂3‑8％和余量的纯水，各组分重量百分数之和为100％。所述蚀刻液性能稳定，对环境无污染；对铜钼叠层膜有着优良选择性蚀刻比，蚀刻后线路边线整齐均匀，线路角度不超过65度，关键尺寸损失单边不超过0.5μm。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 世代 平板 用铜钼 蚀刻 | ||
【主权项】：
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