[发明专利]控制直写光刻机曝光的方法、装置和光刻机有效
| 申请号： | 202010119271.4 | 申请日： | 2020-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN111367147B | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 赵美云 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 | 代理人： | 卢春燕 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种控制直写式光刻机曝光的方法、装置和光刻机，该方法包括：获取直写式光刻机数字微镜阵列中实际使用区域的有效列数W和有效行数D；创建灰度模板；根据所述直写式光刻机当前的曝光色差分布调节所述实际使用区域的每个镜片对应所述灰度模板像素的灰度值；读取用于曝光的携带光刻图形信息的曝光数据，并将所述曝光数据与对应的灰度模板像素的灰度值进行运算；将运算获得的数据加载到所述数字微镜阵列，以进行显示。本发明的控制直写式光刻机曝光的方法通过使用灰度模板对微镜阵列进行操作，使曝光平台上呈现的曝光色差达到一致，减小了曝光次数从而增加了产能。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 光刻 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
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