[发明专利]一种基于纳米压印和电化学沉积技术的SERS基底的制备方法在审
| 申请号： | 202010115873.2 | 申请日： | 2020-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN111337471A | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 朱婧;明安杰;赵永敏 | 申请（专利权）人： | 有研工程技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;C25D15/00;C25D5/18;C25D3/48;C23C28/02;C23C14/35;C23C14/14;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 中国有色金属工业专利中心 11028 | 代理人： | 李子健 |
| 地址： | 101407 北京市怀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于纳米压印和电化学沉积技术的SERS基底的制备方法，包括以下步骤：(1)通过电子束曝光制备多孔纳米压印模板；(2)通过纳米压印将多孔纳米压印模板图形转移到压印胶上并固化脱模；(3)去残胶并刻蚀进行多孔纳米压印模板图形转移；(4)除去压印胶，在衬底上获得均匀的纳米结构；(5)通过磁控溅射，在所得纳米结构上制备钼薄膜和金薄膜，增加样品导电性；(6)通过电化学沉积在所得衬底上制备纳米金颗粒。本发明方法制备的SERS基底可大面积制备、重复性好、增强因子高、结构均匀可控、成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 纳米 压印 电化学 沉积 技术 sers 基底 制备 方法 | ||
【主权项】：
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