[发明专利]喷嘴基片、喷墨打印头和喷嘴基片的制造方法有效
| 申请号： | 202010098878.9 | 申请日： | 2020-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN111572198B | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 平冈贤介;山本千早人 | 申请（专利权）人： | 罗姆股份有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/14 | 分类号： | B41J2/14;B41J2/16 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供喷嘴基片、喷墨打印头和喷嘴基片的制造方法。喷嘴基片(3)包括：具有第1表面和第2表面的半导体基片(30)；形成于半导体基片的第2表面的氧化膜(31)；和形成于氧化膜的与半导体基片相反一侧的表面的半导体膜(32)。喷嘴孔(20)包括：形成于半导体基片的第1表面，且在厚度方向上贯通半导体基片和氧化膜的凹部(20a)；和形成于凹部的底面，且在厚度方向上贯通半导体膜的横截面为圆形的墨液排出通路(20b)，墨液排出通路包括：随着向半导体膜的与氧化膜相反一侧的表面去横截面的大小逐渐变小的锥形部(20b1)；和横截面的大小一定的墨液排出用笔直部(20b2)，其一端与锥形部的细径端连通，另一端在半导体膜的表面开口。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 喷墨 打印头 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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