[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202010093189.9 | 申请日： | 2020-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN111669885A | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 高桥大辅 | 申请（专利权）人： | 日本电产株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/00 | 分类号： | H05H1/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 张敬强;李平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置，具备被施加从电源部输出的输出电压的电压施加电极，利用在上述电压施加电极和与上述电压施加电极对置的对置电极之间产生的等离子体对被处理物进行处理，上述等离子体处理装置具备：使上述电压施加电极与上述被处理物相对移动的促动器；配置在上述对置电极与上述促动器之间的绝缘部；以及检测经由上述对置电极流动的电流的电流检测部。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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