[发明专利]磁共振成像装置及超导磁铁在审
| 申请号： | 202010082916.1 | 申请日： | 2020-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN111973187A | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 今村幸信;黑目明;星野伸;八尾武;藤川拓也 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | A61B5/055 | 分类号： | A61B5/055;G01R33/3815 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 张敬强;金成哲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供能抑制伴随辐射屏蔽件的振动而产生涡流并能减少画像质量降低的磁共振成像装置及超导磁铁。磁共振成像装置用的超导磁铁(1)具有大致圆筒形状的真空容器(11)、配置在真空容器(11)内的大致圆筒形状的辐射屏蔽件(12)、以及配置在辐射屏蔽件(12)内的超导线圈(10)。辐射屏蔽件(12)具有位于超导线圈(10)的径向内侧的内筒(12a)。在辐射屏蔽件(12)的内筒(12a)设有沿以该内筒(12a)的中心轴(8)为中心的圆周方向形成的圆环状的肋(17)。 | ||
| 搜索关键词： | 磁共振 成像 装置 超导 磁铁 | ||
【主权项】：
暂无信息
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