[发明专利]曝光机在审
| 申请号： | 202010051349.3 | 申请日： | 2020-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN111123661A | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | 张磊 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杨艇要 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光机。曝光机包括承载平台以及负压装置；所述承载平台用于承载待曝光基板；所述负压装置设于所述承载平台的边缘，用于排出所述待曝光基板挥发的有机物。本发明通过增加负压装置吸附挥发的有机物，将有机挥发物及时排出曝光机，避免了在曝光机内存在挥发有机物导致影响光路、污染掩模板造成曝光不均，从而保证曝光机内部洁净度，大大减少有机物对曝光机镜组及掩模板的污染，并保证了曝光的均一性，提高了良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 | ||
【主权项】：
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