[发明专利]一种陷印区域优化处理方法及装置有效
| 申请号： | 202010023571.2 | 申请日： | 2020-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN111277723B | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 郭海;张琴 | 申请（专利权）人： | 方正株式（武汉）科技开发有限公司 |
| 主分类号： | H04N1/58 | 分类号： | H04N1/58 |
| 代理公司： | 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 | 代理人： | 廉海涛 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术开*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种陷印区域优化处理方法及装置，该方法包括：扫描预打印的所有色块，确定相邻色块的公共边界；判断所述公共边界的每一个陷印边界满足是否陷印条件，并获取满足陷印条件的每个陷印边界对应的陷印方向；将相邻且陷印方向相同的陷印边界相连；分析多个陷印边界交汇处是否存在溢出，删除存在溢出的交汇端口处的一定长度的陷印边界；对处理后的陷印边界在交汇处进行边界优化处理，得到优化后的陷印区域。通过该方案解决了现有防止陷印区域溢出方法人工成本较高的问题，可以有效降低人工成本，提高陷印效率，能防止陷印区域溢出到窄色块。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 区域 优化 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
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