[发明专利]一种用于光刻过程顶部抗反射膜生产的含氟水溶性高分子材料无效
| 申请号： | 202010013964.5 | 申请日： | 2020-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN111171192A | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 李永斌;钱亚飞;何龙龙;陈志鹏;汪叔林 | 申请（专利权）人： | 甘肃华隆芯材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C08F8/18 | 分类号： | C08F8/18;C08F8/24;C08F120/06;G03F7/004 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 张串串 |
| 地址： | 730900 甘肃省白银市白银区兰包路33*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： |
一种含氟水溶性高分子材料，将水溶性高分子树脂进行羧基改性，其中水溶性高分子树脂的主链为聚丙烯酸 |
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| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 过程 顶部 反射 生产 水溶性 高分子材料 | ||
【主权项】：
暂无信息
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