[发明专利]用于控制光刻工艺的方法及设备在审
| 申请号： | 201980090607.4 | 申请日： | 2019-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN113366389A | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | R·沃克曼;D·F·S·德克尔;B·拉贾塞克兰;伊格纳西奥·萨尔瓦多·瓦斯凯罗达特;S·罗伊 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 披露了一种确定用于光刻工艺的控制参数的方法，该方法包括：限定用于表示在衬底上各处的工艺参数特征标识的衬底模型，该衬底模型被限定为基函数的组合，该基函数包括适合于表示多个衬底之间和/或多批衬底之间的工艺参数特征标识变化的至少一个基函数；接收在至少一个衬底上各处的工艺参数的测量结果；使用测量结果及基函数计算衬底模型参数；以及基于衬底模型参数及至少一个基函数与多个衬底之间和/或多批衬底之间的工艺参数特征标识变化的相似度确定控制参数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 控制 光刻 工艺 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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